华盛顿告知ASML一台EUV设备在中国，ASML清点全部314台后予以否认

摘要

美国商务部长霍华德·卢特尼克已告知ASML，一台Asml极紫外（EUV）光刻设备或EUV相关部件已流入China，违反了荷兰和美国的出口管制规定。该指控于6月18日至19日经由彭博社和TechCrunch公开，到6月22日，美国官员进一步明确证据涉及EUV兼容部件与运输设备，并非完整设备。ASML以异常明确的措辞予以反驳：公司既未向中国交付完整的EUV系统，也未交付任何专为EUV开发的部件，并表示已全数核实其安装的314台EUV系统的下落。荷兰自2019年起已禁止向中国出口EUV设备。美国官员一再拒绝出示证据，BIS执法的可能性由此上升。

数字

• 314，ASML表示能够完整核实下落的已安装EUV系统台数。
• 0，自2019年荷兰禁令以来ASML向中国出货的EUV设备台数。
• 约20%，此前已批准的（非EUV）中国销售额占ASML 2026年营收的比例。
• 2.525亿美元，BIS对Applied Materials的罚款（2026年2月，因通过韩国向Smic转运部件）。
• 60台以上，ASML计划于2026年出货的EUV机台数（2027年为80台，含约10台High-NA扫描仪）。

为何重要

一旦EUV违规被确认，将打碎芯片管控体系的核心假设，即受限最严的设备无法进入中国。部件与整机的区别是整个案件的焦点：两用部件处于管控规则未曾设想的灰色地带。即便尚未得到证实，这场争议已对ASML的中国营收及荷美关系造成压力。

值得关注的

• BIS是否启动正式执法程序并最终出示证据。
• ASML在下次财报电话会议上的回应及是否下调中国营收预期。
• 荷兰政府立场，海牙究竟支持ASML还是华盛顿。