米国がASMLにEUV装置の中国流入を通告、ASMLは314台を全数確認し否定

要約

米国商務長官ハワード・ラトニックはASMLに対し、Asmlの極端紫外線(EUV)リソグラフィ装置、またはEUV関連部品が、オランダと米国の輸出規制に違反してChinaに渡ったと通告した。この主張は6月18日から19日にかけてブルームバーグとTechCrunchを通じて公になり、6月22日までに米国当局は証拠がEUV対応部品と輸送機器に関するものであり、完全な装置ではないと特定した。ASMLは異例なほど明確な言葉で反論した。同社は完全なEUVシステムも、EUV専用に開発された部品も中国に納入しておらず、設置済みの314台全てのEUVシステムの所在を把握していると述べた。オランダは2019年からEUVの対中輸出を禁じている。当局は証拠開示を繰り返し拒否しており、BISによる執行措置の可能性が高まっている。

数字で見る

• 314、ASMLが全台の所在を把握していると主張する設置済みEUVシステム数。
• 0、2019年のオランダ禁輸以来、ASMLが中国に出荷したEUV装置の台数。
• 約20%、従来承認済みの（非EUV）中国向け販売がASMLの2026年収益に占める割合。
• 2億5,250万ドル、Applied MaterialsへのBIS制裁金（2026年2月、韓国経由でのSmic向け部品迂回）。
• 60台超、ASMLが2026年に出荷を計画するEUVユニット数（2027年は80台、High-NAスキャナ約10台含む）。

なぜ重要か

EUV違反が確認されれば、最も厳しく制限された装置は中国に渡ることができないという半導体規制体制の根本的前提が崩壊する。部品対完全装置という区別が事案の核心であり、デュアルユース部品は規制が想定していなかったグレーゾーンに位置する。証明されない段階でも、この問題はASMLの中国売上とオランダ・米国間の連携に圧力をかけ続けている。

注目点

• BISが正式な執行措置を開始し、最終的に証拠を提示するかどうか。
• 次回決算説明会でのASMLの対応と、中国向け売上見通しの修正。
• オランダ政府の立場、ハーグがASMLを支持するか、ワシントンを支持するか。